中国突破3nm光刻机技术
答：国内想要突破不是那么一两年可以做到的,最有可能的是5年以后,10年以后,但到那时更新进的制程又出来了,所以国内企业要想追赶起码要10年起步,只要突破光刻机技术,那么华为目前的困境就迎刃而解。 个人看法: 华为下半年的高端机所用的5nm芯片,听说在美国制裁之前就已经加大了订单,当然也有报道称,订单被取消,产线...
答：台积电对ASML的EUV光刻机依赖度加深：3nm制程需超过20层作为EUV光刻工艺的先锋，台积电已成功将这一先进技术应用于N7+、N6和N5等多个制程节点。N7+的7nm工艺中，虽然EUV仅占4层，但相比传统多层曝光，显著提升了生产效率。然而，当推进到5nm时，EUV的层数显著增加，达到了14层，包括关键的触点、过孔...
答：但是中国的技术实力也比当初要强得多，还有市场的巨大能量，全面突破只是时间问题。那问题了来了为什么芯片难造？首先是材料，芯片使用的电子级高纯硅纯度要求十分高，就我们国家而言十分依赖进口，直到2018年江苏的鑫华公司才实现量产，目前年产0.5万吨，而中国一年进口15万吨。其次就是常说的光刻机，...
答：通过RET（离轴照明、OPC、PSM等）技术，分辨率得到了突破性的提升。然而，瑞利公式制约着焦深与NA的关系，而投影式光刻机则因其避免污染和提高分辨率而成为主流。多重曝光技术如LELE虽能实现微缩，但成本随之增加。EUV光刻技术虽然带来了成本和时间的优势，但5nm浸没式DUV技术的经济性尚未成熟。光刻机的...
答：再说了，某些高校有留外传统，他们不去国外占领关键岗位，谁去收留大量去国外留学的中国学生？绝大多数出国留学的学生都回来了，总要有留下殿后的吧？再说了，谁说高端人才毕业必须是清华大学毕业的，歼20研制总师就不是。回来说说光刻机，光刻机不能急，原因是这是个产业集群，涉及到材料、精密制造和...
答：另外ASML这家公司的镜片技术十分高，有着上百年的技术积累，并且它还是采用德国、美国提供的多种技术，虽说是一家荷兰公司，但它背后有着整个欧美顶端科技的支持。如今中国在光刻机这一领域依旧是很大的短板，这对我们研究芯片，半导体都有着很大的影响，因此如果芯片领域被西方国家制裁，那么中国...
答：最近比较许多人都在讨论光刻机这一项高科技，但是光刻机这一项技术在我国又恰恰是处于弱势的，因为我国目前仅仅只能制造出精度为90nm的光刻机，这比目前世界的顶尖水平有很大的差距，因为据说世界上著名的ASML公司已经能够制造出精度达到5nm的光刻机了。虽然我国的光刻机技术还不是很成熟，但也是不可...
答：预计未来全球芯片先进制程有可能达到2纳米。而光刻机每进阶到一个新的水平技术要求难度都会大大增加，特别对于我国来说更是如此。如果从国运来说，最重要的还是芯片。现在由于芯片技术的落后，我们处处受制于人。而且芯片这种核心的东西，人家留个后门啥的很难发现。所以我认为中国科技龙头是芯片。
答：ASML是世界上最优秀的光刻机制造商，其光刻机精度最高能满足3nm芯片的生产需要，及其先进。这使得它几乎占据全球整个高端光刻机制造市场。十四五规划中，国家下决心解决卡脖子技术，因此中国也在光刻机制造领域奋力追赶。目前从相关报道来看，中国武汉光电中心的研究已经突破9nm光刻技术，跟最高水平仍有较...
答：中国现在能做14nm芯片。14nm并不是停在实验室里面的研发，也不是投产，而是规模量产。此外90nm光刻机、5nm刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等也实现突破。此次14nm虽然量产，但其实与国际水平还有着较大的差距，尤其是光刻机，我们还依旧依赖着国外的技术，光刻机大概率还是用ASML的。光刻机...
网友评论：
傅毛15024422490：
中国突破光刻机意味着什么? -
38161拔亭
： 国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备1以下的信息器件.这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革,也将加快推进工业4.0,实现中国制造2025的美好愿景.长期...
傅毛15024422490：
现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
38161拔亭
： 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
傅毛15024422490：
中国哪家的光刻机功能,性能最好?
38161拔亭
： 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
傅毛15024422490：
光刻机中国能造吗?
38161拔亭
： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
傅毛15024422490：
祖国的最新成就有哪些 -
38161拔亭
： 022年中国的十大科技成就一:中国“天眼”开启地外文明搜索中国“天眼”,500米口径球面射电望远镜,简称FAST,位于我国贵州省黔南布依族苗族自治州平塘县克度镇大窝凼的喀斯特洼坑中,为国家重大科技发展工程,是我国自主知识产权...
傅毛15024422490：
我们国家有大批科研人员,为什么不能制造出光刻机? -
38161拔亭
： 因为想要研究出光刻机需要芯片,再加上我们国家的科技水平还没有达到这样的高度,同时技术也面临着很多问题和难题,很难克服,短时间之内还能找到出发点,但是未来的十年或者是50年,有可能会制造出来这样的机器.
傅毛15024422490：
光刻机是哪个国家生产的?
38161拔亭
： 在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,荷兰ASML公司占据着全球80%的市场份额,几乎处于垄断地位.除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康和佳能,中国的代表企业是上海微电子(SMEE).光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造.国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主.
傅毛15024422490：
水杨酸生产废水处理办法及工艺.在生产水杨酸过程中产生的废水如何处理. -
38161拔亭
： 水杨酸生产废水是典型的高盐、含酚且难生物降解的强酸性有毒有机工业废水,其pH值为2、含盐量高达2.5%、含酚高、B/C仅为0.07,不适宜采用常规的生物法处理,而物理法的处理成本又很高,因此基本采用化学氧化法中的Fenton法来处理...
傅毛15024422490：
在美国的重压下,华为手机以后是不是很少会使用麒麟芯片了?还会有机型使用它吗? -
38161拔亭
： 不是应该都是麒麟芯片了么?目前两年的芯片是没问题的,至于以后,看国内的芯片生产厂家的能力,或者说美国的态度
