光刻机最新官方消息
答：例如，天仁微纳公司在DOE、AR/VR衍射光波导、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等领域拥有类似的技术。据称，天仁微纳已经在150/300mm基底面积上实现了高精度的纳米压印，优于10nm的精度。如果这一消息属实，国内的NIL纳米压印技术有望实现到5nm，从而减少对光刻机的依赖。
答：对于这次的突破，验收专家组的意见是：该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。消息一出，很多人都纷纷称赞，但大多数都是不明觉厉，当然也有人说是吹牛。这个...
答：阿斯麦公司制造新一代光刻机的消息流出后引起了很多人的热议，光刻机在复杂的半导体供应链和工艺环节中起着这关重要的作用，也有人说一台光刻机就有可能会决定一家半导体企业的存亡，以往阿斯麦公司和台积电一直保持很好的合作关系，台积电也一直都是该公司的先进光刻机的优先供货客户，这次 阿斯麦公司自己...
答：并且台积电对于光刻机也是加大引进的力度，台积电方面表示，预计在2021年，台积电EUV光刻机要达到50台的数量，台积电这样做可能是为了让产能不那么紧张。那么面对劲敌台积电的动作不断，三星显然是开始着急了，所以就连三星的董事长李在镕亲自前往ASML公司洽谈光刻机事宜，可以看出三星对于光刻机有多么的迫切...
答：场内的技术人员向记者透露，他们之所以关闭四台EUV并不是因为电费的原因，而是想将产品进行升级换代，而升级后的EUV将比之前的老产品产生的能量提高到原来的18%左右。有专业人士表示，像EUV这种光刻机是属于高密度的机台，而且它们都是半导体设备，无论市场的前景多么的不好，还是因为客户大量的减少，他们...
答：半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。佳能公司是以光学为核心的相机与办公设备制造商，始终以创造世界一流产品为目标，积极推动事业向多元化和全球化发展。那么佳能要推出推出新型光刻机了，我们一起来看看！推出新型光刻机 据最新的消息了解到，今日，日本佳能将于2021年3月发售新型光刻机“...
答：中国光刻机能产几纳米：最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度。目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步。这意味着中国在半导体产业中所具备的实力进一步得到了增强，也为今后的科技发展奠定...
答：1. 晶瑞股份已经决定投资7500万元人民币，购买韩国SK公司旗下的ASML品牌光刻机。这一设备将被用于支持公司集成电路制造用高端光刻胶的研发工作，体现了晶瑞股份在技术研发上的决心和市场对其前景的信心。2. 光刻机的购买价格为1102.5万美元，这一战略决策已经激发了资本市场的正面反应。截至消息公布时，...
答：低端和中端光刻机的封锁已经被解除了。两道封锁线都已经荡然无存了，美国和荷兰像是自动解除、提前解除封锁的，近年来让ASML连DUV中端光刻机都卖给我们国内企业那么多台了，是在我国光刻机企业还没有宣布国产中端光刻机下线消息的情况下。看来，是由于知道我国光刻机企业已经突破了中端技术，并且已经...
答：现在中芯可以做到28纳米，也是现在的主流机器，订单已经排期几年了，现在14纳米的也已经成功下线了，由于良品率太低，现在正在调试，明年肯定能批量生产了，然而这还不是我国最先进光刻，清华大学的双工台4nm光刻机早就完成了样机制造，现在也是在调试阶段，相信要不了多久就能听到好消息了。还有3nm的...
网友评论：
邓辉15583633411：
光刻机中国能造吗?
46442竺绿
： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
邓辉15583633411：
中国哪家的光刻机功能,性能最好?
46442竺绿
： 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
邓辉15583633411：
请问最新的CPU用的几十纳米技术?用什么光刻机实现的?最好具体点. -
46442竺绿
： 目前是INTEL的32NM,不过INTEL已经准备22NM了. 光刻机.32nm制程目前用的是193nm沉浸式光刻技术 具Intel透露,计划要将193nm沉浸式光刻技术沿用到11nm节点制程 当然,光刻技术还有极紫外光刻技术,不过还处在实验阶段,显然INTEL目前不怎么看好这个技术 LS,现在INTEL的I3和I5 6XX就是32NM的CPU核心+45NM的GPU核心,I7 980X也是32NM制程
邓辉15583633411：
中国何时能造出来自己的光刻机? -
46442竺绿
： 现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机.这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中,超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物.而且这10万个零件之中,精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少.它们分别来自全球各个国家,包括日本、德国和美国.而其中,美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多,正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品.
邓辉15583633411：
光刻机是哪个国家生产的?
46442竺绿
： 在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,荷兰ASML公司占据着全球80%的市场份额,几乎处于垄断地位.除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康和佳能,中国的代表企业是上海微电子(SMEE).光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造.国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主.
邓辉15583633411：
光刻机的介绍 -
46442竺绿
： 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
邓辉15583633411：
光刻机的价格
46442竺绿
： 当然不同,激光源,激光透镜,激光光路是决定价格的主要因素.ASML是世界上最先进的光刻机公司,先进的型号可制备32nm及以下的制程,是你说的淘宝上微米级不可同日而语的. 是飞机与自行车技术含量的对比.
邓辉15583633411：
光刻机的分类 -
46442竺绿
： 光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动 A 手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了; B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐; C 自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要,恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer.
