中国4nm光刻机成功
答：现在中芯可以做到28纳米，也是现在的主流机器，订单已经排期几年了，现在14纳米的也已经成功下线了，由于良品率太低，现在正在调试，明年肯定能批量生产了，然而这还不是我国最先进光刻，清华大学的双工台4nm光刻机早就完成了样机制造，现在也是在调试阶段，相信要不了多久就能听到好消息了。还有3nm的制...
答：1. 中国光刻机目前处于低端水平，正在努力向中端水平迈进。2. 高端光刻机市场由ASML垄断，其产品被称为“万国牌光刻机”，尽管其95%的零件从其他国家采购，但ASML依然保持其在高端光刻机市场的领导地位。ASML的主流产品为7nm光刻机，而5nm光刻机已研发完成并准备量产，这将对手机芯片产业产生重大影...
答：日前，台积电在其官网所披露的二季度财报分析师电话会议材料中，提及4nm工艺的。台积电CEO、副董事长魏哲家在会上表示，他们将推出4nm工艺，作为5nm工艺家族的延伸。4nm工艺将兼容5nm工艺的设计规则，计划在2022年大规模量产。台积电的业务厉害在哪？台积电主营业务是芯片加工，而芯片加工主要依赖于光刻机...
答：光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机，结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件。这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业4.0，实现中国制造2025的美好愿景。长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，成为我国工...
答：实际上中国能制造光刻机，只是不能制造先进光刻机。在2021年的时候，中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机。这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年时国际领先水平是5nm芯片。单论先进光刻机方面，在目前的市场上是一超多强。荷兰的asml是世界上最大、最先进的光刻...
答：第四代为步进式投影式光刻机，采用193nm波长的ArF氟化氩准分子激光光源，可实现制程推进到了65—130nm。第五代为EUV光刻机，选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源。3、市场 目前全球光刻机市场被荷兰的ASML，日本的Canon、Nikon所垄断，因此统计三家数据便可代表整个行业状况。当前，中国也有了...
答：影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。
答：3. 在未来5到10年内，High-NA EUV光刻机有望推动世界芯片工艺达到新的高度。虽然我们作为中国人对此只能感到羡慕，但不能责怪荷兰制造商ASML，而是需要努力追赶。4. ASML正在开发下一代High-NA EUV光刻机，型号为EXE:5000。该光刻机采用高数值孔径系统，孔径数达到0.55，是生产2nm及以下芯片的关键...
答：独立研发光刻机对我国意味着科技上打破西方国家的垄断，改变中国高新技术被国外封锁的局面，同时可以推动国家自主芯片的研发进展。目前世界上光刻机研发，由荷兰、美国、日本这三个国家掌握技术，根本不会对外开放也不会对外公布，导致中国一直在这方面有严重的制约。尤其是2020年全球疫情影响，每个国家都不同...
答：3. 光刻机技术分为DUV（深紫外）和EUV（极紫外）两种。波长越短的光刻机能够刻蚀出更精细的芯片。DUV光刻机能生产130nm至22nm的芯片，而中国技术理论上可将其精度提升至7nm。EUV光刻机使用13.5nm的极紫外光，能生产22nm至2nm的芯片，目前只有阿斯麦能制造。4. 阿斯麦的首席财务官曾暗示，公司可以...
网友评论：
乐晓13329999375：
魅族mx5和魅族MX4PRO有什么区别 -
22622敖玲
： MX5的性价比高,性能更好、拍照也更佳出色.1、来自 MTK 的 64 位真 8 核 CPU Helio X10,采用 28nm HPM 工艺,频率稳定且漏电率低;全金属机身独特 CNC 加工 T 槽厚仅 7.6mm2、GPU 采用与苹果 A8 处理器同门的 PowerVR G6200,...
乐晓13329999375：
在求晶胞的密度是为什么在计算出相对分子质量后,又乘以4, 这个4指的是什么? -
22622敖玲
： 一个晶胞中的单位个数
乐晓13329999375：
光刻机中国能造吗?
22622敖玲
： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
乐晓13329999375：
中国哪家的光刻机功能,性能最好?
22622敖玲
： 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
乐晓13329999375：
...声学特性以及化学性能等方面.纳米技术目前已成功应用于许多领域,在工业、农业、能源、环保、医疗、国家安全等都有广泛应用,如图是1993年中国科学... -
22622敖玲
：[答案] (1)铜颗粒达到纳米尺寸就可以变成绝缘体; (2)金属陶瓷复合纳米材料强度高且韧性好,应用于人体的设想是人造牙齿、人造骨骼等. (3)金属的颜色会变黑不是一个可以探究的科学问题,其探究的价值不高. (4)针对纳米材料“特殊热学性质”...
乐晓13329999375：
与4克SO3分子中原子总数相等的水的质量是? 过程? -
22622敖玲
： 1.2g4克SO3的物质的量是n=m/M=4/80=0.05mol1个SO3有1个S原子和3个O原子,一共4个原子.原子的物质的量是0.05*4=0.2mol1个H2O含有2个H原子和1个O原子,一共3个原子.需要H2O物质的量是0.2/3=0.067mol 需要水的质量是m=nM=0.067*18=1.2g
乐晓13329999375：
由鲍林规则可解释硅酸盐晶体中为什么一个氧离子只能被两个硅氧四...
22622敖玲
： 如果是标况,需要1.566g.四瓶容积为100ml氯气,即400mL氯气,0.4L氯气.氯气的物质的量是n=V/Vm=0.4/22.4=0.018mol MnO2+4HCl=△=MnCl2+2H2O+Cl2↑1 1 n(MnO2) 0.018mol n(MnO2)=0.018mol 需要MnO2的质量是m=nM=0.018*87=1.566g
乐晓13329999375：
手机真八核比四核的运行速度快多少倍? -
22622敖玲
： 简单来说,四核心处理器便是拥有四个处理核心,可共同工作.八核部分则分为两种,一种实际上是“双四核”,即存在八个核心,但无法共同工作,其中四个核心往往被应用在基础通讯等部分;所谓的“真八核”则是理论上八个核心可以同时...
乐晓13329999375：
玩游戏4核CPU比较好吗? -
22622敖玲
： cpu当然是越多核心越好,但是现阶段用四核的U还是比较浪费的,双核的就差不多了,多核只是在处理多任务时表现出优势,相反,在处理3D方面和游戏渲染方面单核还有双核还是表现比多核好,要3D渲染好的U当然是AMD 的U啦,在游戏方...
