刻蚀工艺基本步骤
答：从制作工艺上来讲，都是大同小异的，具体步骤如下：掩膜制作（一般多采用感光油墨晒版）--蚀刻（采用化学蚀刻或者电解蚀刻皆可，一般来说化学蚀刻应用范围更广）--脱墨，脱掉油墨---上漆--后期处理（包括打磨、抛光、光油保护等）。圆管蚀刻上漆 ...
答：刻蚀工艺；把未被抗蚀剂掩蔽的薄膜层除去，从而在薄膜上得到与抗蚀剂膜上完全相同图形的工艺。在集成电路制造过程中，经过掩模套准、曝光和显影，在抗蚀剂膜上复印出所需的图形，或者用电子束直接描绘在抗蚀剂膜上产生图形，然后把此图形精确地转移到抗蚀剂下面的介质薄膜（如氧化硅、氮化硅、多晶硅）...
答：蚀刻的机制，按发生顺序可概分为「反应物接近表面」、「表面氧化」、「表面反应」、「生成物离开表面」等过程。所以整个蚀刻，包含反应物接近、生成物离开的扩散效应，以及化学反应两部份。整个蚀刻的时间，等于是扩散与化学反应两部份所费时间的总和。二者之中孰者费时较长，整个蚀刻之快慢也卡在该者，...
答：在实际应用中，我们针对光纤内部NA值的差异，采取了创新策略：一是逐步增加剥光液处理时间，确保光的均匀散射；二是先部分腐蚀光纤，再利用HF溶液进一步减小包层直径，最大限度地散射包层光。以Nufern公司的LMA-GDF-20/400-M为例，具体步骤如下：精细剥纤，确保与剥光盘尺寸匹配标记腐蚀区域，精确控制腐...
答：在曝光过程中，光线透过掩模板上的透明区域，照射到硅片表面的光刻胶上，引发光化学反应。接下来是显影步骤，通过使用特定的显影液，溶解掉未感光的光刻胶部分，从而在被加工表面形成与掩模板相对应的图形。最后，通过刻蚀工艺，将没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀，再将剩余的光刻胶去除，完成整个光刻...
答：外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 其实外延片的生产制作过程是非常复杂的,在展完外延片后,下一步就开始对...
答：芯片制造工艺流程主要包括晶圆制备、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械抛光、金属化、测试和封装等步骤。这些步骤相互关联，共同确保芯片的高质量和性能。详细 1. 晶圆制备：晶圆是芯片制造的基础，它是一块圆形的硅片。制备过程中，硅原料经过熔化、提纯、拉晶、切割等步骤，最终得到具有特定直径和...
答：湿式蚀刻过程可分为三个步骤：1) 化学蚀刻液扩散至待蚀刻材料之表面；2) 蚀刻液与待蚀刻材料发生化学反应； 3) 反应后之产物从蚀刻材料之表面扩散至溶液中，并随溶液排出(3)。三个步骤中进行最慢者为速率控制步骤，也就是说该步骤的反应速率即为整个反应之速率。大部份的蚀刻过程包含了一个或多个...
答：等离子刻蚀的原理可以概括为以下几个步骤：●在低压下，反应气体在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体，等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的气体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量并形成大量的活性基团（Radicals）●活性反应基团和被刻蚀物质表面形成化学反应并形成挥发性的...
答：1. wafer 表面处理；2. 旋涂光刻胶（包括抗反射层）3. 前烘；4. 曝光；5. 后烘；6. 显影，有的需要在显影前进行坚膜；7. 刻蚀
网友评论：
牛趴18337662100：
蚀刻的工艺流程 -
38986靳骆
： 曝光法:工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK 网印法:开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK
牛趴18337662100：
刻蚀工艺 - 百科
38986靳骆
： 大多的彩色不锈钢金属蚀刻的工艺的流程:不锈钢板→除油→水洗→干燥→丝网印刷→干燥→水浸→蚀刻图纹叶(片)水洗→除墨→水洗→抛光→水洗→着色→水洗叶(片)硬化处理→封闭处理→清洗叶(片)干燥→检验→产品.如果是选择买彩色不锈钢板,需要先了解其着色加工工艺,是水镀还是真空离子电镀的.因为真空离子镀加工的产品质量要好很多,所以高档彩色不锈钢蚀刻板金属材料比较受欢迎.还有选择有良好信誉的厂家或供应 商,比如 奥思博雅 彩色不锈钢板,这样在购买的时候有保证,不是吗.楼主麻烦送点分吧,谢谢
牛趴18337662100：
金属蚀刻主要工艺流程是什么?
38986靳骆
： 1.蚀刻前处理 在金属蚀刻之前的工序都是前处理,它是保证丝印油墨与金属面具有良好附着力的关键工序,因此必须要彻底清除金属蚀刻表面的油污及氧化膜.除油应根据...
牛趴18337662100：
光刻蚀加工工艺过程的步骤是咋样?
38986靳骆
： 1涂胶2曝光3显影与烘片4腐(刻)蚀5剥膜与检查
牛趴18337662100：
五金蚀刻的工艺流程是什么?
38986靳骆
： 工艺流程编辑曝光法:工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK网印法:开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK
牛趴18337662100：
精密蚀刻产品加工的主要步骤是什么?
38986靳骆
： 精密蚀刻产品加工的主要步骤:将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,使用两个阳性图形通过从两面的化学研磨达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果.首先我们根据客户提供的图纸文件进行处理制作出菲林,然后由光反应通过菲林把图案转移到涂有感光油墨的钢片正、反面上.之后又经化学反应把图案显现在钢片上.然后经化学分解的方法把不需要的图案蚀刻掉,这样一件精密蚀刻产品就初步完成了,通过脱膜和清洗以及检测包装即可出货.
牛趴18337662100：
什么是金属蚀刻工艺?
38986靳骆
： 金属蚀刻工艺流程 金属的种类不同,其蚀刻的工艺流程也不同,但大致的工序如下:金属蚀刻板→除油→水洗→浸蚀→水洗→干燥→丝网印刷→千燥→水浸2~3min→蚀刻图案文字→水洗→除墨→水洗→酸洗→水洗→电解抛光→水洗→染色或电镀→水洗→热水洗→干燥→软布抛(擦光)光→喷涂透明漆→干燥→检验→成品包装.
牛趴18337662100：
光刻曝光技术的主要流程及每个步骤的意义 -
38986靳骆
： 光刻工艺主要步骤 1. 基片前处理 为确保光刻胶能和晶圆表面很好粘贴,形成平滑且结合得很好的膜,必须进行表面准备,保持表面干燥且干净,2. 涂光刻胶 涂胶的目标是在晶圆表面建立薄的、均匀的,并且没有缺陷的光刻胶膜.3. 前烘(软...
牛趴18337662100：
谁知道积架金笔蚀刻的工艺流程都有哪些环节?
38986靳骆
： 金属蚀刻由于金属种类不同,其蚀刻的工艺流程也不同,但大致的工序如下:第一步工件、第二步除水、第三步浸蚀、第四步水洗、第五步干燥、第六步丝网印刷、第七步干燥、第八步水浸2~3min、第九步蚀刻图案文字、接着是水洗然后除墨、再进行水洗和酸洗-电解抛光-水洗-染色或电镀-水洗-热水洗-干燥-软布抛(擦光)-干燥-检验-成品.共24个环节.
