刻蚀工艺的目的
答：其原理是指利用等离子体中的化学活性原子团与被刻蚀材料发生化学反应，从而实现刻蚀目的。由于刻蚀的核心还是化学反应（只是不涉及溶液的气体状态），因此刻蚀的效果和湿法刻蚀有些相近，具有较好的选择性，但各向异性较差。二氧化锆干法刻蚀具有高精度、高效率、低污染等优点，被广泛应用于微电子、光电子、...
答：不会。氢氧化钠刻蚀二氧化硅是利用氢氧化钠溶液具有强腐蚀性的特点，将二氧化硅表面的硅羟基破坏掉，从而达到除去杂质的目的，当反应完全是不会留下羟基的。二氧化硅与氢氧化钠的反应在常温常压下即可进行，氢氧化钠浓度小的话反应非常慢，另外反应速度跟二氧化硅的物理状态有很大关系。
答：刻蚀槽硫酸作用是活化金属表面。硫酸有溶解氧化层，从面达到活化金属表面的目的。蚀刻中各槽间的转移活化工序就是利用这一功能。
答：将刻有文字或图案、花纹的玻璃，作为装饰品，美观大方。达到这一目的方法是采用饰刻法，即利用化学药剂——蚀刻剂来 腐蚀刻制玻璃的方法。作为蚀刻剂，长期以来使用的是氢氟酸。作为蚀刻方法，则是将待刻的玻璃，洗净晾干平置，于其上涂布用汽油溶化的石蜡液作为保护层，于 固化后的石蜡层上雕刻出所需要...
答：一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。硅片清洗烘干1、硅片清洗烘干(Cleaning and Pre-Baking)方法:湿法清洗+去离子水冲洗+脱水烘焙(热板150～250C,1～2分钟,氮气保护)目的:a、除去表面的污染物(颗粒、有机物、工艺残余、可动离子);b...
答：感光层同时还要被短波长光线透过掩模刻蚀。再经过一部刻蚀，所需的全部门电路就已经基本成型了。然后，要对暴露在外的硅层通过化学方式进行离子轰击，此处的目的是生成N沟道或P沟道。这个掺杂过程创建了全部的晶体管及彼此间的电路连接，没个晶体管都有输入端和输出端，两端之间被称作端口。● 重复这一...
答：一、酸化处理工艺的原理 酸化处理工艺的原理主要基于酸与材料表面发生化学反应，通过去除表面杂质、氧化物和腐蚀金属材料，以达到改变表面性质的目的。在酸化处理过程中，通常使用浓酸如硫酸或硝酸，使金属表面生成致密的氧化膜，以提高金属材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。二、酸化处理工艺的应用 在废水处理...
答：揭秘高功率CPS的精密工艺：表面刻蚀包层光剥除技术深度解析 表面刻蚀包层光剥除技术，如图1所示，是一种巧妙的工艺，通过在双包层光纤内侧创造规则或不规则的凹凸纹理，中断激光在包层中的传导路径。当激光试图通过这些纹理区域时，会引发强烈的散射，从而达到剥离包层光的目的，其优势在于保留了“石英-...
答：因此，必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀，以去除电池边缘的PN结。通常采用等离子刻蚀技术完成这一工艺。等离子刻蚀是在低压状态下，反应气体CF4的母体分子在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的气体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量...
答：用等离子体中的自由基去轰击或溅射被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质。刻蚀机的组成一般包括等离子发生器（工业上常用RF激发法），真空室，和电极。其工作原理是用等离子体中的自由基去轰击或溅射被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻蚀的目的。也有部分等离子刻蚀机采用反应离子刻蚀技术。刻...
网友评论：
贲良18723065231：
刻蚀工艺 - 百科
2667卓显
： 根据有所不同的加工阶段来设计有所不同的加工工艺,使能更好的确保产品的质量和加工的合理性与经济性.
贲良18723065231：
请懂得金属工艺的大神帮忙解决问题啊 这是蚀刻工艺嘛? -
2667卓显
： 是的,的确属于蚀刻工艺.目前来讲,蚀刻工艺主要有两大类,一是化学蚀刻,就是利用各类化学药水直接跟金属发生反应,达到蚀刻的目的.二是电解蚀刻,以上视频截图中的内容就属于此类蚀刻.蚀刻的原理是将准备蚀刻的工件接在电解电源的阳极,负极一般使用金属片包裹隔离层,操作时负极蘸有电解液,通电后缓慢移动阴极片,从而阳极溶解达到蚀刻目的.当然蚀刻前要在工件上做出图案,一般使用各类抗蚀刻的油墨即可.
贲良18723065231：
光刻曝光技术的主要流程及每个步骤的意义 -
2667卓显
： 光刻工艺主要步骤 1. 基片前处理 为确保光刻胶能和晶圆表面很好粘贴,形成平滑且结合得很好的膜,必须进行表面准备,保持表面干燥且干净,2. 涂光刻胶 涂胶的目标是在晶圆表面建立薄的、均匀的,并且没有缺陷的光刻胶膜.3. 前烘(软...
贲良18723065231：
cpu集成的晶体管是怎么制造的 -
2667卓显
： 1、光刻蚀:这是目前的CPU制造过程当中工艺非常复杂的一个步骤,为什么这么说呢?光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕,由此改变该处材料的化学特性.这项技术对于所用光的波长要求极为严格,需要使用短波长...
贲良18723065231：
等离子体刻蚀 是很古老的工艺吗 -
2667卓显
： 当然不古老,等离子体学科出现发展才不过百年,半导体集成电路出现才多少年,最早刻蚀半导体都是用化学方法,最近十几年才发明出等离子体刻蚀机,现在基本都是等离子体刻蚀了.
贲良18723065231：
蚀刻工艺 - 蚀刻怎么做冲压,蚀刻钢片?
2667卓显
： 一般可以理解蚀刻是冲压工艺的延伸,是可以替代冲压工艺解决不了的产品生产问题.冲压会涉及到模具的问题,而且大部份的冲压模具都是比较昂贵的,一旦确定了的模...
