国产光刻机最新进展
答：如表1所示，ASML在光刻技术上占据明显优势，而Nikon和Canon则继续深耕中低端领域，未来的竞争态势将如何演变，业界瞩目。前瞻展望：挑战与机遇并存的2024 随着中国半导体行业的蓬勃发展，光刻机行业正面临转型升级的关键节点。未来几年，中国能否突破技术瓶颈，提升国产光刻机的竞争力，将成为决定市场格局的重...
答：中国的光刻机技术正在逐步提升，其中SMEE光刻机的最新进展是实现了28纳米的制程。这一重大突破是在先前90纳米的基础上取得的，标志着上海微电子装备股份有限公司在国产光刻机领域迈出了重要一步。尽管与目前国际主流的7纳米芯片制备工艺还有一定的差距，但国产28纳米光刻机的交付无疑显示了国内在这一技术...
答：弘芯半导体引进ASML高端光刻机，国产14nm工艺新进展12月22日，武汉弘芯半导体宣布，其制造厂已迎来首台高端光刻机设备的隆重入驻，虽然官方并未透露具体型号，但知情人士透露这是一台价值千万美元级的ASML设备。弘芯半导体项目堪称武汉半导体产业的重头戏，2018年总投资高达1280亿元，占地636亩，预计能实现年...
答：我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有。EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度。然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光刻机如何则备受关注。目前，ASML公司所在的荷兰政府以及美国政府均在对EUV光刻机...
答：28纳米。根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米（nm）光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。
答：自美国对华为等中国科技公司实施限制以来，中国的芯片自给自足之路愈发迫切。其中，光刻机技术成为关键所在。尽管面临美国的严格封锁，中国在芯片领域的自主研发仍取得重要进展。有德国媒体预测，中国可能在10年内实现光刻机的自给自足。这一预测是否准确？光刻机是芯片制造过程中的核心设备，其技术复杂，...
答：以期打破技术瓶颈。目前国产光刻机技术仍停留在90nm工艺，与先进水平差距明显。然而，光刻机技术的进步需要长期研发投入和国际合作，ASML的成功并非一日之功。因此，大基金二期的巨额资金注入，无疑为国产EUV光刻机乃至整个半导体装备行业提供了强大推动力，有望推动我国在这个关键领域的自主创新能力提升。
答：上海微电子装备有限公司是中国最大的光刻机生产厂家之一，目前该公司已量产最先进的SSA600/20系列光刻机，该系列光刻机依旧采用193nm ArF光源技术，能够满足90nm芯片的制造需求。上海微电子在低端光刻机设备领域占据了国内近80%的市场份额。据国内官方媒体报道，上海微电子计划在明年完成下一代28nm工艺...
答：查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV...
答：低端和中端光刻机的封锁已经被解除了。两道封锁线都已经荡然无存了，美国和荷兰像是自动解除、提前解除封锁的，近年来让ASML连DUV中端光刻机都卖给我们国内企业那么多台了，是在我国光刻机企业还没有宣布国产中端光刻机下线消息的情况下。看来，是由于知道我国光刻机企业已经突破了中端技术，并且已经...
网友评论：
傅变18885726505：
光刻机中国能造吗?
11965丁解
： 暂时不能光刻机不是一项单一的技术,而是现代各项高科技技术的集成,成品背后需要无数的产业链支持,以中国现在的科技水平暂时还不能造出.当中国专家去荷兰阿斯...
傅变18885726505：
中国哪家的光刻机功能,性能最好?
11965丁解
： 上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了.SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备.此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求.该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产. 本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的.6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高.
傅变18885726505：
中国何时能造出来自己的光刻机? -
11965丁解
： 现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机.这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中,超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物.而且这10万个零件之中,精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少.它们分别来自全球各个国家,包括日本、德国和美国.而其中,美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多,正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品.
傅变18885726505：
美国队长2为什么击毁天空母舰 -
11965丁解
： 反叛者们让天空母舰执行大规模杀伤计划,所以击毁. 《美国队长2》是2014年上映的超级英雄电影,改编自漫威漫画,是漫威电影宇宙的第九部影片.由漫威影业主席凯文·费吉制片,安东尼·罗素和乔·罗素兄弟执导,克里斯·埃文斯领衔主演.故事时间发生在《复仇者联盟》纽约大战两年后,史蒂夫·罗杰斯(美国队长)已经定居华盛顿,努力适应现代社会的生活.然而当一起神秘袭击事件伤害到神盾局的重要人物时,史蒂夫必须重新出马,与想要消灭他的刺客们抗争,和娜塔莎·罗曼诺夫(黑寡妇)一起找出幕后真凶,他们还必须招募有特训经验的桀骜英雄猎鹰加入他们的队伍.
傅变18885726505：
国内家公司的光刻机性价比好? -
11965丁解
： 现在光刻机品牌挺多,还要看你用于做科研,还是生产,量产的话配置要求高,性价比也不会多高,科研或小规模生产的话,高性价比的有SUSS,NXQ或一些韩国台湾品牌,我接触的一些高校实验室都用NXQ的
傅变18885726505：
现在中国最先进芯片工艺是多少纳米 -
11965丁解
： 中企最高技术28纳米,而且还是中芯挖的台干带来的技术芯片工艺最重要的机器是光刻机,目前被欧洲垄断.欧洲有条约禁止向社会主义国家出口类似光刻机的高科技设备
傅变18885726505：
光刻机是哪个国家生产的?
11965丁解
： 在全球高端光刻机市场,荷兰达到全球领先水平,荷兰ASML公司占据着全球80%的市场份额,几乎处于垄断地位.除了荷兰,日本、中国也可以制造光刻机,日本的代表企业是尼康和佳能,中国的代表企业是上海微电子(SMEE).光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造.国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主.
傅变18885726505：
光刻机是生产CPU的么 -
11965丁解
： 光刻机是生产CPU的重要设备,但是并不是只能用于生产CPU. 实际上,光刻机是半导体工艺非常重要的生产设备,用于将理论设计的电路制作到真实的Si级片上,并最终获得集成电路. 所有大规格和超大规模集成电路,都会使用到光刻机,这其中当然包括CPU,也包括GPU,单片机芯片等等各种半导体芯片. 有兴趣,百度百科的相关词条,有更详细的内容供参考.
傅变18885726505：
光刻机的介绍 -
11965丁解
： 光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等.常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序.Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程.
傅变18885726505：
请问最新的CPU用的几十纳米技术?用什么光刻机实现的?最好具体点. -
11965丁解
： 目前是INTEL的32NM,不过INTEL已经准备22NM了. 光刻机.32nm制程目前用的是193nm沉浸式光刻技术 具Intel透露,计划要将193nm沉浸式光刻技术沿用到11nm节点制程 当然,光刻技术还有极紫外光刻技术,不过还处在实验阶段,显然INTEL目前不怎么看好这个技术 LS,现在INTEL的I3和I5 6XX就是32NM的CPU核心+45NM的GPU核心,I7 980X也是32NM制程
