euv光刻机的关键是什么？
SSMB光源的潜在应用之一是将来成为EUV光刻机的光源，这是国际社会高度重视清华大学SSMB研究的重要原因。在芯片制造行业，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造中最复杂，最关键的工艺步骤，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，在半个多世纪以来，波长光刻技术的光源的规模正在缩小，这已被芯片行业公认为是新一代的主流光刻技术是使用波长为13.5纳米的光源的EUV光刻技术。
相当于使用直径仅为直径的十分之一的极紫外光最后，一块指甲大小的芯片将包含数百亿个晶体管。该设备过程显示了人类技术发展的最高水平。荷兰ASML目前是世界上唯一的EUV光刻机供应商，每台EUV光刻机的价格都超过1亿美元，大功率EUV光源是EUV光刻机的核心基础。目前ASML使用高能脉冲激光轰击液态锡靶以形成等离子体，然后产生波长为13.5纳米的EUV光源，功率约为250瓦。
随着芯片工艺节点的不断缩小，预计对EUV光源的需求将继续增加，达到千瓦级别。简而言之，光刻机所需的EUV光需要短波长和高功率，大功率EUV光源的突破对于EUV光刻技术的进一步应用和发展至关重要。基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并有可能扩展到更短的波长，为突破大功率EUV光源提供了新的解决方案。我国自主研发EUV光刻机还有很长的路要走。基于SSMB的EUV光源有望解决自行开发的光刻机中最核心的“卡死”问题。
这就需要对SSMB EUV光源进行持续的科学技术研究，以及上下游产业链的合作，才能取得真正的成功。专业人士认为这项研究展示了一种新的方法，并且肯定会引起对粒子加速器和同步加速器辐射领域的兴趣，该实验演示了如何结合现有的两种主要加速器光源的特性：同步辐射辐射光源和自由电子激光器，有望将SSMB光源用于EUV中，是光刻和角度分辨光电子能量的未来。清华大学正在积极支持和推动在国家一级建立SSMB EUV光源项目，清华SSMB研究小组已向国家发改委提交了“稳态微束极紫外光源研究装置”的项目提案，并宣布了“十四五”期间国家重大的科学技术基础设施计划”。
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