光刻机唯一上市公司
光刻机行业的唯一上市公司是张江高科公司。光刻机，也称为掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统，是芯片制造过程中的核心设备。它利用类似于照片冲印的技术，将掩膜版上的精细图案通过曝光过程转移到硅片上。光刻机市场品牌众多，根据技术路线的不同，可以分为几个主要类别：1. 高端投影式光刻机分为步进投影和扫描投影两种，分辨率通常在7纳米至几微米之间。这些高端光刻机被认为是世界上最精密的仪器，其价格可达1.2亿美金一台。全球只有少数几家公司能够制造这种高端光刻机，其中包括荷兰ASML（其镜头来自德国）、日本Nikon（英特尔曾购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon等国际品牌。
2. 位于中国的上海微电子装备（SMEE）已经研发出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，并已开始海内外销售，同时也在进行其他产品系列的研发和制作。
3. 生产线和研发使用的低端光刻机主要是接近式或接触式光刻机，其分辨率一般在数微米以上。市场上的主要供应商包括德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006以及中国品牌等。
光刻机的主要性能指标包括支持基片的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性以及生产效率等。分辨率描述了光刻工艺能够加工的最细线条精度，受光源衍射限制，并与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等因素相关。对准精度是在多层曝光过程中层间图案的定位精度。曝光方式则分为接触接近式、投影式和直写式。光源波长通常涉及紫外、深紫外和极紫外区域，常用的光源有汞灯和准分子激光器等。
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