薄膜工艺和刻蚀哪个难
刻蚀。1、在芯片制造中，有三个核心的环节，分别是薄膜沉积、光刻、和刻蚀，光刻是最复杂、最关键、成本最高、耗时最高的环节，刻蚀的成本仅次于光刻，因此刻蚀难。
2、薄膜沉积也是必不可少的重要工序，在制造中，为了实现大型集成电路的分层结构，需要反复进行沉积刻蚀沉积的过程，因此刻蚀难。
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