光刻机概念
光刻机，又名紫外曝光机，或曝光系统、光刻系统，其核心功能是掩膜对准光刻，因此Mask Alignment System是其常用称呼。这个精密设备在现代集成电路制造中扮演着关键角色。光刻工艺涉及多步骤处理。首先，硅片表面需经过彻底清洗并烘干，以确保表面清洁无杂质。接下来，涂布一层底膜，为后续的光刻过程提供基础。旋涂光刻胶是紧接着的步骤，通过均匀涂抹，形成一层薄薄的光敏材料。软烘处理使胶层变得更加柔软，便于后续操作。
对准曝光是工艺的核心环节，通过精确对准掩模版与硅片上的光刻胶，将掩模上的图形暂时"复制"到硅片上。这一步骤通过控制光的曝光，将设计图转移到光刻胶上，形成电路或器件的蓝图。
随后，后烘处理进一步固化光刻胶，显影步骤则显现图形，硬烘则是为了加强图形的耐用性。最后，刻蚀工序根据显影后的图形，通过化学或物理方法在硅片上蚀刻出电路或器件的结构，完成整个光刻过程。
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