光刻机是怎么工作的？一台光刻机一年能制造多少芯片？
光刻机发出的光用于通过带有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光。光刻电阻的特性在看到光后会发生变化，从而使掩模中的图形可以复制到薄片上，使薄片具有电子电路图的功能。这是光刻的功能，类似于照相机摄影。相机拍摄的照片打印在底片上，而照片不被记录，而是电路图和其他电子元件。根据网上资料显示，一台光刻机一天大约可以有效制造600块左右，一年就可以制造差不多21.9万块芯片。
光刻机为什么会如此的重要？
目前，无论是手机芯片、汽车芯片还是其他领域，包括军事、航空航天等应用，芯片都离不开光刻。现在世界上的芯片仍然是硅基芯片。经过近半个世纪的发展，芯片的关键尺寸逐渐缩小，从最初的电子管到晶体管，再到集成电路的发明。目前，我们仅有的技术是光刻技术。因此，如果没有光刻机，芯片就无法正常制造，目前也没有替代光刻机的产品。
一台光刻机有多难造?
光刻机的制造难度非常大，可以说一台光刻机用到的零部件全是各个国家最先进的技术产品。那我们就拿EUV的光刻机举例，有几吨重的镜头，而且还要确保无杂质，拥有纳米级别的分辨率。如果镜头有任何缺陷都是不可接受的，而且镜头的曲率非常薄。第二个困难在于光源，这很难做到。还必须考虑通过每个镜头和光路的光的折射损失，并且可用于光刻的能量非常小。
中国能否自己造一台光刻机？
光刻机在全世界非常稀有，发达国家为了阻止中国发展，禁止出售光刻机到我们国家。但是，近几年我国的科学家和政府都在加大在光刻领域的研究，而且也取得了一些进展，也开始进行国产光刻机的制造。但是尽管我们国家这么努力，但对比asml的光刻机技术，可以说我们连门槛都还没有摸到。不过唯一值得庆幸的事是，国家已经注意到了光刻机的重要性，开始在资金，人才，政策方面给予了大力的扶持。我相信未来我国的光刻技术一定会实现弯道超车。
当芯片工艺达到7Nm时，需要一台EUV光刻机，也称为极紫外光刻机，世界上只能生产荷兰的ASML。
ASML的生产能力有限，自2015第一次EUV光刻机交付以来，2020年底已经交付了100台，而在2021上半年已经交付了16台，这意味着迄今为止已经交付了116份。基于出货量最大的最基本的nxe，3400c，我们每小时加工170块12英寸晶圆，而12英寸晶圆的面积约为70659平方毫米，华为麒麟9000芯片的面积约为100平方毫米。
如果使用100%的晶圆，12英寸晶圆可以生产700 Kirin 9000芯片，但实际上考虑到棱角切割和成品率问题，12英寸晶圆可以切割约450 Kirin 9000芯片。ASML nxe:3400c EUV光刻机可以在一小时内生产76500个麒麟9000芯片。考虑到90%的可用性，它也是68850个芯片。它可以24小时生产165.24万片芯片，每月生产4957.2万片麒麟9000片，每年生产5.95亿片芯片。
如果购买一台ASML nxe:3400c EUV光刻机，而不使用最新的nxe:3600d，那么国内高端芯片的生产能力基本可以得到保证。荷兰ASML制造商还宣布，将在中国台湾金银岛正式建设第一个海外培训中心，亚洲培训中心。ASML之所以要建立这个培训中心，主要是为了培训光刻工程师使用最先进的EUV光刻产品，以提高5nm/3nm芯片的产量，该培训中心每年可培训360多名EUV光刻机操作工程师。它的建成将帮助台积电大大提高高端芯片的生产能力。
光刻机是经过硅片，从而对表面进行清洗，烘干涂光刻胶，对准曝光，去教，转移等较多的工序从而完成工作的；一台光刻机一年能制造5.95亿片芯片。
光刻机的工作原理就是通过清洗烘干硅片表面，旋涂光刻胶，对准曝光去胶，清洗，转移等众多工序完成的，一台光刻机一年能制造5.95亿片芯片。
光刻机是在硅片上进行工作的，会对硅片进行处理，会涂抹一些光刻胶，然后进行曝光，一个光刻机，一年至少可以制造5.9亿芯片。
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