半导体litho和etch区别
区别在于工艺研发不同。etch意思是干法刻蚀,lithography,litho,photo都指光刻。etch只负责etch工艺研发,litho只负责litho工艺研发。工艺部门最好的是litho第二是etch。
一般半导体研发中litho在前,etch在后。litho曝光完成对图案的传递后,再利用etch蚀刻技术把图案转移到光刻胶下面的film中。
绛旓細鍖哄埆鍦ㄤ簬宸ヨ壓鐮斿彂涓嶅悓銆俥tch鎰忔濇槸骞叉硶鍒昏殌锛宭ithography锛宭itho锛宲hoto閮芥寚鍏夊埢銆俥tch鍙礋璐tch宸ヨ壓鐮斿彂锛宭itho鍙礋璐itho宸ヨ壓鐮斿彂銆傚伐鑹洪儴闂ㄦ渶濂界殑鏄痩itho绗簩鏄痚tch銆備竴鑸崐瀵间綋鐮斿彂涓璴itho鍦ㄥ墠锛宔tch鍦ㄥ悗銆俵itho鏇濆厜瀹屾垚瀵瑰浘妗堢殑浼犻掑悗锛屽啀鍒╃敤etch铓鍒绘妧鏈妸鍥炬杞Щ鍒板厜鍒昏兌涓嬮潰鐨刦ilm涓
绛旓細鎺㈢储鍗婂浣宸ヨ壓宸ョ▼甯堢殑鍏夋槑鏈潵锛氬墠鏅В鏋愪笌鑱屼笟閫夋嫨鍗婂浣撹涓氱殑鎶鏈鍩熸瀬鍏跺箍娉涳紝鑰屽崐瀵间綋宸ヨ壓宸ョ▼甯堢殑瑙掕壊鍒欏绉嶅鏍凤紝灏ゅ叾鍦ㄧ鍩鸿姱鐗囩殑鐢熶骇娴佺▼涓紝浠栦滑鐨勯噸瑕佹т笉瑷鑰屽柣銆傚湪FAB锛堟櫠鍦嗗埗閫犲巶锛変腑锛岃繖浜涘伐绋嬪笀鏍规嵁浠栦滑鐨勪笓涓氭妧鑳斤紝涓昏鍒嗕负鍑犱釜鍏抽敭鐜妭锛Litho锛堝厜鍒伙級銆ETCH锛堣殌鍒伙級銆乄ET锛堟箍娉/骞叉硶铓...
绛旓細pe濂姐傚伐鑹哄伐绋嬪笀(PE):涓鑸潵璇达紝宸ヨ壓宸ョ▼甯堢殑鑱屼綅鏄寜鐓у伐鑹烘ā鍧楁潵鍒嗙被鐨勶紝姣斿CMP/CVD/PVD/Litho/dry etch/wet process/division绛夈侰MP PE鍙礋璐MP鐩稿叧鐨勭敓浜у伐鑹猴紝鑰孡itho PE鑷劧鍙礋璐itho鐩稿叧鐨勫伐鑹恒傛槸PE鏅跺渾鍘傜殑鏍稿績宀椾綅涔嬩竴锛屼絾骞虫椂宸ヤ綔鍐呭寰堝锛屾墍浠ヤ竴娑夊強鍒版妧鏈氨瑕佹秹鍙婂埌PE銆
绛旓細鍘傚姟 璐㈠姟 宸ョ▼ 璁惧 閲囪喘 鐮斿彂 鍒堕 甯傚満 瀹㈡湇 鍝佷繚 浜哄姏璧勬簮閮 鐢熶骇绠$悊