中国举国之力发展芯片技术，你觉得未来5年内会有大的飞跃吗？
感谢题主的这个颇有思考意义的话题，下面来补充一下个人看法~概况：半导体产业国产化已经冲刺多年。半导体产业来说，咱技术经验落后、资金投入不够、市场规模差距大要坦诚。不过咱们不是一片空白。从上游材料设备到中游设计制造，再到下游封测，我国半导体产业链各个环节的国产化发展和竞争也异常激烈。事实上，半导体产业国产化的历程已经冲刺多年。
光刻机、蚀刻机、芯片设计、芯片制造等各方面都在努力攻坚，取得了突破性进展，有的已经打破国外垄断。光刻机领域上海微电子一马当先，刻蚀机领域中微半导体、北方华创双双出击、紫光集团存储芯突破……
进展：国产刻蚀机打入全球芯片先进制程产业链。光刻机是芯片制造过程中最复杂和最关键的设备，EUV技术阶段设备要求更高。这方面国产光刻机与国际大厂还有显著的差距。22nm光刻工艺2018年11月，中科院光电所经过7年研发，成功验收了“超分辨光刻装备项目”。
据悉，这是世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，能够实现22nm光刻工艺。而上海微电子2016年实现90nm光刻机突破，并持续向65nm、45nm甚至22nm制程推进。其也在4月也宣布实现了22nm光刻机的研发突破，但细节方面没过多披露。
5nm高端刻蚀机刻蚀机在精密定位和环境控制等技术方面的要求较低，其技术要求和门槛也比光刻机更低。不过它们皆为芯片制造环节中的重要设备，它们的发展无疑是我国半导体产业国产化水平的重要指标之一。中微半导体生产的5nm蚀刻机，已通过台积电验证，计划在今年用于台积电5nm芯片的生产。预示着我国刻蚀机在提高国产化和全球竞争中的阶段性成果。
展望：举国之力发展芯片技术，不受制于人。举国之力发展芯片技术有实例支撑，2000年6月，国务院出台《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》，便是利用资金、人才引进、税收优惠等方式发展IC产业。催生了一批企业，产业链上游的半导体制造设备领域诞生北方华创、上海微电子和中微半导体等公司。紫光集团存储芯突破、合肥长鑫这类存储芯片厂商都获得长足的技术进步，这里面和国家大基金的基本投入一样分不开。
目前，国产刻蚀机已成功打入全球芯片先进制程产业链，但国内外光刻机的技术鸿沟仍然存在，国外领先光刻机技术已推进至5nm
EUV（极紫外）节点，我国的量产光刻机还在一整代技术鸿沟对岸的60nm制程，22nm工艺离商业化落地还较远。也因而我们说，即便举国之力发展芯片技术，5年内会有飞跃进步是不实际的。本土芯片发展程度低、市场覆盖难度大、人才和资金短缺是困扰半导体企业的最大问题。这背后的差距，不仅仅是长达数十年的技术经验差距，还有巨大的资金投入差异。
结语：难，总要开始。信息技术为代表的高新技术和产业正飞速发展，软件产业和集成电路（IC）产业的发展，已成为这场全球竞赛的重要技术基础与核心。回看国产化历程，其实也是对外突破层层限制封锁，对内从无到有逐步萌芽与发展的故事，国产半导体设备厂商仍需砥砺前行。
肯定会。中国的科技一直都在飞速前进，我们现在的芯片技术不是最好的，那是因为中国接触芯片这个领域的时间也不长，就像之前中国各个技术取得成功的经历一样，团结一致，就能成功
芯片发展离不开光刻机技术，目前国内就上海微电有研发光刻机的能力，从90纳米到今年年底28纳米光刻机的制造完全可以说是逆流而上，2025年要实现芯片自给率达到70%，28纳米光刻机多次了曝光能造出14纳米甚至7纳米芯片这点倒是要是想5年内突破实现EUV应该是天房夜谈，不过中国有上海微电和中芯国际，未来芯片可期可以说是中国芯片最重要可以无可替代的两大支柱完全给中国芯片撑起了一片天还有离子注入机EDA蚀刻机这些也是重要的基石
会。因为中国人民的潜力是无穷的，而且中国有很多优秀的专家，所以我觉得未来5年内会有大的飞跃。
未来5年会发生质的变化，因为芯片上面投入了很多人力和物力，有大量的科学家在研究，5年内会产生飞跃。
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